半導體產品車間廢氣煙霧凈化達標排放

　　山東某電子廠通過車間廢氣凈化工藝找到我們，需要我們對其工廠車間的粉塵煙霧做出有效處理。

　　　半導體主要成分：半導體行業廢氣主要為有機廢氣和酸堿廢氣兩類。有機類有：非甲烷總烴、氮氧化物、二氧化硫等；酸堿類有：氨氣、硫酸霧、氟化物、氯化物、氯氣等。

　　半導體酸堿性廢氣：

　　工藝流程： 酸/堿性廢氣→酸/堿式洗滌塔→離心風機→煙囪（達標排放）

　　半導體有機類廢氣VOCs

　　收集廢氣→沸石轉輪吸附裝置→TO直燃式焚燒爐

　　同時整套裝置安q、可靠、無任何二次污染。

　　由于半導體行業對操作室清潔度要求極高，通常使用風機抽取工藝過程中揮發的各類廢氣，因此半導體行業廢氣排放具有排氣量大、排放濃度小的特點。

　　半導體廢氣具有排風量大、濃度低的特點。針對電子行業的廢氣排放特點，采用相應的廢氣末端治理技術，主要還是吸附法或焚燒法。

　　吸附法：廢氣處理設備是活性炭吸附脫附+催化燃燒CO設備，活性炭屬非極性吸附劑，對非極性化合物有較強的吸附能力，一般可凈化低濃度VOCs；

　　燃燒法：廢氣處理設備是沸石轉輪+蓄熱式焚燒爐RTO設備，由廢氣旋轉輪的上游側進入濃縮轉輪的吸附區，使VOCs得到濃縮，在經脫附燃燒處理。

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　　小知識：

　　目前沒有專門關于半導體行業的標準，一切依據《中華人民共和國環境保護法》（2015-01-01）《環境空氣質量標準》（GB3095-2012）《大氣污染物綜合排放標準》（GB16297-1996）等相關文件。

　　江蘇省:《半導體行業污染物排放標準》(DB32/3747-2020)

　　地方方面電子工業VOCs排放標準：

　　北京《大氣污染物綜合環保標準》（DB11/501-2007）中相關規定半導體及電子設備制作VOCs的限制值主導產品為50mg/m3,新創建企業為20mg/m3.

　　天津《工業企業揮發性有機化合物排出控制標準》（DB12/524-2014）。相關規定電子工業VOCs高允許排出濃度值為80mg/m3。

　　上海《半導體行業污染物環保標準》（DB31/374-2006）。相關規定VOCs允許排出濃度值為100mg/m3。

　　2017年廣東《電子工業揮發性有機物環保標準》。相關規定VOCs允許排出濃度值為30mg/m3.

　　電子產品車間粉塵煙霧凈化達標排放